X射线光电子能谱光电离几率和XPS的信息深度

    X射线光电子能谱（XPS，全称为X-rayPhotoelectronSpectroscopy）是一种基于光电效应的电子能谱，它是利用X射线光子激发出物质表面原子的内层电子，通过对这些电子进行能量分析而获得的一种能谱。这种能谱zui初是被用来进行化学分析，因此它还有一个名称，即化学分析电子能谱（ESCA，全称为ElectronSpectroscopyforChemicalAnalysis）

   光电离几率和XPS的信息深度

（1）光电离几率

定义:光电离几率(光电离截面Ó)：一定能量的光子在与原子作用时，从某个能级激发出一个电子的几率；?
影响因素:与电子壳层平均半径，入射光子能量，原子序数有关；
在入射光子能量一定的前提下，同一原子中半径越小的壳层,Ó越大；
电子的结合能与入射光子的能量越接近,Ó越大。
Ó越大说明该能级上的电子越容易被光激发，与同原子其它壳层上的电子相比，它的光电子峰的强度越大。

（2）XPS信息深度

    样品的探测深度通常用电子的逃逸深度度量。

   电子逃逸深度λ（Ek）：逸出电子非弹性散射的平均自由程；

λ：金属0.5~3nm；氧化物2~4nm；有机和高分子4~10nm；通常：取样深度d=3λ

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